简装平行化学合成仪
主要使用于组合化学的合成,高速地震荡,有综合控制的加热单机版本嵌板的低噪音旋涡和显示温度.(-78℃- +150℃可升级到250℃)温度可精确度到0.1℃,8,24,48,96个回流装置 ,反应器为 20-1毫升 8-96 个特殊的玻璃反应器阻塞,完成覆盖板子结构的顶端板,气体进入板子螺旋和逆流冷却室,回流瓶适合8-96个反应仪器回流气流回流控制调整器。
EMS 150T 镀膜仪
分子涡轮高真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,可镀多种膜材,也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属(贵金属)靶材的功能,可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。
郑州电腐蚀打标机
电腐蚀打标机应用范围:1、五金工具,刀,剪,钳,量具刃具,硬质合金工具2、不锈钢制作品,不锈钢外壳产品,杯,缸,壶,餐具橱具,加热器,食品工具设备3、仪表元件,电子器件,医疗器材,钟表眼镜4、机床附件,齿轮轴承,阀门,水嘴,机器零件,车辆配件5、各种仪器
反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统
  产品介绍:BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统、反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统用于反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子
台式隐形眼镜等离子清洗系统,迷你型台式等离子系统,台式等离子清洗系统
等离子体广泛的应用在隐形眼镜的生产中。等离子用来在镀膜前活化镜片材料,也可用来侵蚀表面,暴露出下面的表层。在这两个应用中等离子都可以替代难用的、耗时的、昂贵的湿化学方法。 用于制造隐形眼镜的玻璃带有铸型时产生的聚合物污染层和/或脱模剂。